檢索結果：共4筆資料 檢索策略： "Lithography".ekeyword (精準) and year="106"
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由於極紫外光微影系統技術開發上仍有困難，無法立即取代現有生產線上ArF-193nm浸潤式微影系統微影製程生產，因此吸引許多研究者尋找改善方案，其中可利用光源光罩最佳化程序搜尋最佳的光罩圖案設計與對應…
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雷射直寫技術之於黃光微影製程的優勢是無需光罩，而以雷射光束聚焦在光阻上直接定義電路圖案，對此一個基於雙軸振鏡的雷射掃描系統，能夠將數十微米的聚焦光點快速定位在曝光面的任意處，不過掃描過程中存在像場變…
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隨著現代積體電路的複雜度不斷增加與製程節點的演進，電路可製造性在現代微影(Lithography)製程中正遭遇許多困難。次級解析輔助特徵圖案(SRAF) 擺置與光學鄰近修正(OPC)等重要的解析度增…
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本研究主要探討不同複合材料及其應用，首先利用黏膠人造纖維(viscose rayon cellulose fiber)為基底加載鉑(platinum)和銀(silver)奈米粒子其分別應用在分解…